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器件的横向尺寸控制与器件的横向尺寸控制几乎全由光刻技术来实现。

光刻技术是一种在硅片上制造微小结构的技术，广泛应用于集成电路、半导体器件、微机械等领域，在制造过程中，光刻技术通过特定的工艺步骤将设计图案转移到硅片上，实现对器件横向尺寸的高精度控制，这种技术能够制造出亚微米甚至纳米级的结构，从而满足现代电子器件对尺寸精度的要求，光刻技术是器件横向尺寸控制的关键技术之一。

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